Une nouvelle étude sur la nanotexturation du silicium par plasma pour applications PV vient d’être publiée dans le journal Optics Express – Energy Express. Publication disponible ici : https://doi.org/10.1364/OE.25.0A1057 (open access)

Cette étude, menée dans le cadre du projet A de l’IPVF, est le résultat d’une collaboration internationale avec le LPICM (Laboratoire de Physique des Interfaces et Couches Minces, CNRS, France) et le NIST (National Institute of Standards and Technology, Etats-Unis). La nanotexturation du silicium par plasma permet de produire des surfaces à très faible réflectance sur une large gamme spectrale, sans recours à une couche antireflet additionnelle. Dans cette étude, nous démontrons que la morphologie des nanostructures évolue de manière similaire quel que soit l’état de surface initial du silicium. En plus d’une faible réflectance, les surfaces nanotexturées par plasma démontrent : (i) une large acceptance angulaire (permettant potentiellement d’augmenter la puissance journalière et annuelle générée par des panneaux solaires fixes) et (ii) une amélioration du piégeage optique dans le proche infra-rouge grâce à une diffusion accrue de la lumière (une propriété cruciale en cas de réduction de l’épaisseur de l’absorbeur).

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