Latest news from IPVF

Plasma nanotexturing of silicon: new publication in collaboration with NIST

A new study on plasma nanotexturing of silicon for PV applications has been published in Optics Express – Energy Express. Paper available here: https://doi.org/10.1364/OE.25.0A1057 (open access). This work, in the frame of IPVF project A, is the result of an international collaboration with the LPICM (Laboratory of Physics of Interfaces and Thin Films, CNRS, France) and the Sensor Science Division at NIST (National Institute of Standards and Technology, US). Plasma nanotexturing of silicon leads to

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L’IPVF réceptionne son bâtiment sur le campus Paris-Saclay

Le 20 octobre dernier l’IPVF a réceptionné son nouveau bâtiment de 8000 m² situé au cœur du campus de Paris-Saclay sur la commune de Palaiseau. D’ici le premier trimestre 2018 et une fois les opérations d’aménagement terminées, les 150 chercheurs de l’IPVF et de ses partenaires y emménageront avec leurs équipements de recherche. « Le regroupement des capacités de recherche de l’IPVF dans ce bâtiment va constituer une étape importante dans le développement de notre

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IPVF takes possession of its building on the Paris-Saclay campus

On 20 October, IPVF is taking possession of its new 8,000 m² building located in the heart of the Paris-Saclay campus in the town of Palaiseau. By the first quarter of 2018 and once the interior work has been completed, the 150 researchers from IPVF and its partners will move in with their research facilities. « The consolidation of IPVF’s research capabilities in this building will be an important step in the development of our institute.

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