The IPVF supports the second edition of the workshop RAFALD (French Network of ALD Players) to be held on 14, 15 and 16 November 2016 in Chatou (EDF Lab) and Paris (Chimie ParisTech). This annual workshop dedicated to the ALD (Atomic Layer Deposition) technology is organized around a scientific program (tutorials, round-tables, oral presentations, poster session) and an exhibition.
L’IPVF soutient la seconde édition du workshop RAFALD (Réseau Français des Acteurs de l’ALD) qui aura lieu les 14, 15 et 16 novembre 2016 à Chatou (EDF Lab) et Paris (Chimie ParisTech). Ce workshop annuel dédié à la technologie ALD (Atomic Layer Deposition) est organisé autour d’un programme scientifique (tutoriels, tables rondes, présentations orales, session poster) et d’un salon exposants.
Mise à jour du 20/09: Liste des intervenants: Clas Persson, University of Oslo « Exploring materials for ultrathin inorganic solar cells: DFT results, challenges, and computational issues » Christophe Longeaud, GEEPS “Numerical simulation of characterization techniques applied to solar industry semiconductor thin films” Paul Voss, GeorgiaTech Lorraine “Device modelling” Eric Sandré, EDF R&D “PV Economy” Dietrich Foerster, University Bordeaux “An O(N3) solution of the GW equations for complex semiconductors” Jelena Sjaskte Polytechnique, LSI “Hot Carrier Relaxation In
