L’IPVF soutient la seconde édition du workshop RAFALD (Réseau Français des Acteurs de l’ALD) qui aura lieu les 14, 15 et 16 novembre 2016 à Chatou (EDF Lab) et Paris (Chimie ParisTech). Ce workshop annuel dédié à la technologie ALD (Atomic Layer Deposition) est organisé autour d’un programme scientifique (tutoriels, tables rondes, présentations orales, session poster) et d’un salon exposants.  

September 20th update   Invited Speakers Clas Persson, University of Oslo « Exploring materials for ultrathin inorganic solar cells: DFT results, challenges, and computational issues » Christophe Longeaud, GEEPS “Numerical simulation of characterization techniques applied to solar industry semiconductor thin films” Paul Voss, GeorgiaTech Lorraine “Device modelling” Eric Sandré, EDF R&D “PV Economy” Dietrich Foerster, University Bordeaux “An O(N3) solution of the GW equations for complex semiconductors” Jelena Sjaskte Polytechnique, LSI “Hot Carrier Relaxation In Photoexcited GaAs: